ALKÍMIA MA - Szárnyaló molekulák - felületi rétegek
Adatlap
Előadó: 
Szepes László
Időpont: 
csü., 2013-02-14 17:00
Helyszín: 
ELTE Pázmány Péter sétány 1/A 0.83
Kísérő programok: 
Szalay Luca: A Magyar Kémikusok Egyesülete Kémiatanári Szakosztályának új honlapja
Kvízjáték
Gonda Zsombor, Herner András: Látványos kémiai kísérletek
A kémiai gőzfázisú rétegleválasztás (CVD) egy igen változatos eljárás összefoglaló elnevezése, amellyel egységes felületi vékonyrétegek állíthatók elő. A CVD olyan anyagok leválasztását teszi lehetővé, amelyek más technikákkal nem, vagy csak igen körülményesen valósítható meg. Az így leválasztott vékonyrétegek az alkalmazások széles skáláját ölelik fel, amely az üveg- és fémfelületek védőbevonataitól, a félvezetők, világító diódák (LED) és lézerek anyagán keresztül, egészen a felületi keménybevonatokig terjed.

Az előadás a módszer alapelvét, a megvalósítás legfontosabb változatait, a CVD folyamatok kémiáját és az alkalmazások legjellemzőbb területeit tekinti át.